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晶圓激光打標(biāo)機(jī)

 

綠光激光標(biāo)記的優(yōu)勢(shì):

 

       常見(jiàn)的綠激光是指532nm波長(zhǎng)的激光。工作原理:激光器內(nèi)部有一個(gè)808nm波長(zhǎng) 的紅外線激光管,用于泵浦(激發(fā))YVO4激光晶體來(lái)發(fā)射1064nm的遠(yuǎn)紅外激光, 1064nm的遠(yuǎn)紅外激光經(jīng)過(guò)倍頻晶體后波長(zhǎng)減半,頻率加倍,生成532nm的綠激光。
       成本優(yōu)勢(shì):在滿足客戶使用要求的前提下,選擇高性價(jià)比方案,綠激光器成 本明顯低于紫外激光器,532nm振鏡比進(jìn)口紫外振鏡相比,成本急劇降低, 532nm平場(chǎng)鏡頭相比紫外平場(chǎng)鏡頭也是如此。
       平均功率優(yōu)勢(shì):在相同采購(gòu)成本前提下,綠光平均功率顯然比紫外大很多。平均功率高的綠光,在切割效率上比紫外要快很多,直接提高激光切割效率,降低切割時(shí)間成本。
       激光劃刻精細(xì):線條可以達(dá)到微米級(jí),采用激光標(biāo)刻技術(shù)制作的標(biāo)記仿造和更改都非常困難,對(duì)產(chǎn)品防偽極為重要。

 

打標(biāo)效果照片:

 

產(chǎn)品性能與特點(diǎn):

○ 印記規(guī)格:數(shù)字或字母字高≥0.12mm、字寬≥0.12mm、字深≤0.015mm;
○ 適合打標(biāo)的晶圓規(guī)格:8英寸Wafer、12英寸Wafer;
○ 振鏡掃描范圍≥35mmx35mm,打標(biāo)位置偏差≤±20μm;
○ 表面質(zhì)量:字體完整,無(wú)中斷,清晰可見(jiàn),無(wú)重影,線寬≤20μm;
○ 整片打印印記重復(fù)精度<±0.02mm;
○ 雙CCD定位,正反雙面定位;
○ 平臺(tái)定位精度±0.0005mm; 
○ 軟件具備識(shí)別條形碼參數(shù)切換和自動(dòng)替換字符功能;
○ 軟件具備Offset手動(dòng)輸入功能,以解決Wafer上不規(guī) 則的打標(biāo)偏移現(xiàn)象;
○ 自動(dòng)生成MappingFile功能:可根據(jù)參數(shù)生成一個(gè)與 實(shí)際圖形重合的虛擬die分布圖;
○ 模塊化設(shè)計(jì),國(guó)際品牌配置,確保設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。