国产成人综合在线观看不卡丨国产精品永久免费视频丨亚洲午夜精品a片久久www慈禧丨国产精品无码一区二区三区免费丨国内精品久久久久av福利秒拍

箱式等離子清洗機

 

 

       等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運動狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
       在真空腔體里,注入介質(zhì)氣體、通過射頻電源起輝產(chǎn)生高能量的等離子體。等離子體轟擊被清洗物表面,與有機污染物發(fā)生化學(xué)及物理作用,形成揮發(fā)性化合物,隨工作氣體排出,達到清洗的目的。

 

 

 

 

 

等離子清洗在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用

○ 晶圓清洗:清除殘留光刻膠;
○ 封裝點銀膠前:使工件表面粗糙度及親水性大大提高,有利于銀膠平鋪及芯片 粘貼,同時可大大節(jié)省銀膠的使用量,降低成本;
○ 壓焊前清洗:清潔焊盤,改善焊接條件,提高焊線可靠性及良率;
○ 塑封:提高塑封料與產(chǎn)品粘結(jié)的可靠性,減少分層風(fēng)險;
○ BGA基板清洗:在BGA貼裝前對PCB上的Pad進行等離子體表面處理,可使Pad表面達到清潔、粗化和活化的效果,極大的提高了BGA貼裝的一次成功率;
○ FlipChip引線框架清洗:經(jīng)等離子體處理可達到引線框架表面超凈化和活化的 效果,提高芯片的粘接質(zhì)量。

 

箱式等離子清洗機產(chǎn)品規(guī)格書

 

項目

HTM-6052

HTM-6061

工作腔體

工作平臺

2個

1個

真空腔

垂直升降一體式結(jié)構(gòu)

真空腔尺寸

598mm×268mm×346mm

清洗架

2個多層清洗架

1個多層清洗架

適應(yīng)
產(chǎn)品規(guī)格

長mm

0-280/450

158-280/560

寬mm

25.4-70/280

25.4-70/210

工藝特性

射頻功率

50-600W可調(diào)

真空度

≥10pa

氬氣流量

5-35ml/min

清洗時間

根據(jù)產(chǎn)品具體設(shè)定

清洗效果判別方法

水滴角測定儀

清洗效果

水滴角<30°

產(chǎn)品載具尺寸

整盒式清洗尺寸(80mm×125mm×280mm)

產(chǎn)品進料
收料方式

抽拉式上下料

工作循環(huán)時間

490S(真空度20Pa,射頻時間400S)

設(shè)備配置

清洗工位

雙工位旋轉(zhuǎn)清洗

單工位清洗

控制系統(tǒng)

OMRON PLC控制+觸摸屏

機械標(biāo)準(zhǔn)件

SMC氣缸+臺灣上銀直線導(dǎo)軌+MISUMI標(biāo)準(zhǔn)件

電器元件

OMRON PLC+伺服+SCHNEIDER電氣元件

真空泵

1500L/min,2Pa,AC380V

射頻電源

1000W,13.56MHz

信息化
配置

清洗參數(shù)

20段工藝參數(shù)預(yù)先設(shè)定,一鍵調(diào)用

運行數(shù)據(jù)

實時顯示

報警日志記錄

可記錄,可查詢

與MES系統(tǒng)聯(lián)網(wǎng)

選配

設(shè)備主要用途

用途

適用于品種多的生產(chǎn)線進行晶圓清洗、塑封產(chǎn)品清洗,以及PCB基板清洗、LED全制程清洗、COB制程、LCD制程、金屬表面氧化物去除等清洗。

動力配置

供電電源

AC380V 50Hz~60Hz 32A四孔插頭 5KW

壓縮空氣

4-6bar,快插口徑ø8mm

氮氣

4-6bar,快插口徑ø8mm 99.99%

氬氣

2-4bar,快插口徑ø8mm 99.9%

排氣

1500L/min,ø40mm

重量

500KG

400KG

設(shè)備外形尺寸
長×寬×高

1144mm×1074mm×1680mm

976mm×800mm×1680mm